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三維形貌共聚焦材料測量顯微鏡

簡要描述:VT6000三維形貌共聚焦材料測量顯微鏡單區(qū)域、多區(qū)域、拼接、自動測量等多種測量模式可選擇,適應(yīng)多種現(xiàn)場應(yīng)用環(huán)境;Z軸上裝有防撞機械電子傳感器、軟件ZSTOP防撞保護功能,雙重保護。

  • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • 更新時間:2024-08-16
  • 訪  問  量:317

詳細(xì)介紹

品牌中圖儀器產(chǎn)地國產(chǎn)
加工定制

中圖儀器VT6000三維形貌共聚焦材料測量顯微鏡用在材料生產(chǎn)檢測領(lǐng)域中,對各種精密器件及材料表面進(jìn)行微納米級測量??蓽y各類包括從光滑到粗糙、低反射率到高反射率的物體表面,從納米到微米級別工件的粗糙度、平整度、微觀幾何輪廓、曲率等。

三維形貌共聚焦材料測量顯微鏡

VT6000三維形貌共聚焦材料測量顯微鏡單區(qū)域、多區(qū)域、拼接、自動測量等多種測量模式可選擇,適應(yīng)多種現(xiàn)場應(yīng)用環(huán)境;Z軸上裝有防撞機械電子傳感器、軟件ZSTOP防撞保護功能,雙重保護。

三維形貌共聚焦材料測量顯微鏡

產(chǎn)品功能

1)3D測量功能:設(shè)備具備表征微觀3D形貌的輪廓尺寸及粗糙度測量功能;

2)影像測量功能:設(shè)備具備二維平面輪廓尺寸的影像測量功能,可進(jìn)行長度、角度、半徑等尺寸測量;

3)自動拼接功能:設(shè)備具備自動拼接功能,能夠?qū)崿F(xiàn)大區(qū)域的拼接縫合測量;

4)數(shù)據(jù)處理功能:設(shè)備具備調(diào)整位置、糾正、濾波、提取四大模塊的數(shù)據(jù)處理功能;

5)分析工具功能:設(shè)備具備粗糙度分析、幾何輪廓分析、結(jié)構(gòu)分析、頻率分析、功能分析等五大分析功能;

6)批量分析功能:設(shè)備具備一鍵分析和多文件分析等輔助分析功能,可實現(xiàn)批量數(shù)據(jù)文件的快速分析功能;

7)便捷操作功能:設(shè)備配備操縱桿,支持操縱桿進(jìn)行所有位置軸的操作及速度調(diào)節(jié)、光源亮度調(diào)節(jié)、急停等;

8)光源安全功能:光源設(shè)置無人值守下的自動熄燈功能,當(dāng)檢測到鼠標(biāo)軌跡長時間未變動后會自主降低熄滅光源,防止光源高亮過熱損壞,并有效延長光源使用壽命;

9)鏡頭安全功能:設(shè)備配備壓力傳感器,并在鏡頭處進(jìn)行了彈簧結(jié)構(gòu)設(shè)計,確保當(dāng)鏡頭碰撞后彈性回縮,進(jìn)入急停狀態(tài),大幅減小碰撞沖擊力,有效保護鏡頭和掃描軸,消除人為操作的安全風(fēng)險。


不同應(yīng)用場景下的3D形貌

主要應(yīng)用于半導(dǎo)體、光學(xué)膜材、顯示行業(yè)、超精密加工等諸多領(lǐng)域中的微觀形貌和輪廓尺寸檢測中,其次是對表面粗糙度、面積、體積等參數(shù)的檢測中。

3D形貌圖片:

影像測量功能界面

三維形貌共聚焦材料測量顯微鏡


應(yīng)用場景

1、鐳射槽

測量晶圓上激光鐳射槽的深度:半導(dǎo)體后道制造中,在將晶圓分割成一片片的小芯片前,需要對晶圓進(jìn)行橫縱方向的切割,為確保減少切割引發(fā)的崩邊損失,會先采用激光切割機在晶圓表面燒蝕出U型或W型的引導(dǎo)槽,在工藝上需要對引導(dǎo)槽的槽型深寬尺寸進(jìn)行檢測。

三維形貌共聚焦材料測量顯微鏡

2、光伏

在太陽能電池制作工程中,柵線的高寬比決定了電池板的遮光損耗及導(dǎo)電能力,直接影響著太陽能電池的性能。共聚焦顯微鏡可以對柵線進(jìn)行快速檢測。此外,太陽能電池制作過程中,制絨作為關(guān)鍵核心工藝,金字塔結(jié)構(gòu)的質(zhì)量影像減反射焰光效果,是光電轉(zhuǎn)換效率的重要決定因素。共聚焦顯微鏡具有納米級別的縱向分辨能力,能夠?qū)﹄姵匕褰q面這種表面反射率低且形貌復(fù)雜的樣品進(jìn)行三維形貌重建。

三維形貌共聚焦材料測量顯微鏡

3、其他

三維形貌共聚焦材料測量顯微鏡


部分技術(shù)指標(biāo)

型號VT6100


行程范圍

X100mm
Y100mm
Z100mm
外形尺寸
520*380*600mm
儀器重量50kg
測量原理共聚焦光學(xué)系統(tǒng)
顯微物鏡10×;20×;50×;100×
視場范圍120×120 μm~1.2×1.2 mm


高度測量

重復(fù)性(1σ)12nm
顯示分辨率0.5nm


寬度測量

復(fù)性(1σ)40nm
顯示分辨率1nm
XY位移平臺負(fù)載10kg
控制方式電動
Z0軸掃描范圍10mm
物鏡塔臺5孔電動
光源白光LED


懇請注意:因市場發(fā)展和產(chǎn)品開發(fā)的需要,本產(chǎn)品資料中有關(guān)內(nèi)容可能會根據(jù)實際情況隨時更新或修改,恕不另行通知,不便之處敬請諒解。

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